| 产品特性：镀膜 | 新旧程度：8成新 | 型号：1200 |
| 设备所在地：东莞茶山 | 设备生产产地：日 本 | 产品数量：2 |
工厂转让一台线上用多弧离子电镀膜机1200MM
配置：五个电源 最多可装10块靶，单扩散泵，公自转
方法可用于制备多种材料,如金属、半导体、绝缘子等.它具有设备简单、易于控制、涂覆面积大、附着力强等优点.磁控溅射发展至今,除了上述一般溅射方法的优点外,还实现了高速、低温、低损伤。以下是磁控溅射的六大应用.
各种功能薄膜:具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能.例如,在低温下沉积氮化硅减反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率.
主要用途
是生产各种金属膜电阻及氧化膜电阻的专用设备，可以完成高、中、低不同阻值的镀膜工艺。
主要组成
设备由真空室、真空机组、直流溅射源、射频溅射源、分流式滚筒、充气装置、真空测量及其它辅助装置等组成。
主要特点
生产能力大，根据型号的不同，每炉可镀制装载量达分别为10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷体。
磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速***，阴极体采用可变磁场，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。
详情 销售技术杨经理：18103045976
